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        1、光刻机

        功能：在半导体基材上硅片表面匀胶，将掩模版上的图形转移光刻胶上，把器件或电路结构临时“复制”到硅片上。

        主要企业品牌：

        国际：荷兰阿斯麦asml公司、美国泛林半导体公司、日本尼康公司、日本公司、美国abm公司、德国德国suss公司、美国mycro公司。

        国内：中国电子科技集团第四十八所、中国电子科技集团第四十五所、上海机械厂、成都南光实业股份有限公司。

        &等离子体刻蚀系统

        设备功能：一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下如射频、微波等形成等离子体，一方面等离子体中的活性基团与待刻蚀表面材料发生化学反应，生成可挥发产物；另一方面等离子体中的离子在偏压的作用下被引导和加速，实现对待刻蚀表面进行定向的腐蚀和加速腐蚀。

        主要企业品牌：

        国际：英国牛津仪器公司、美国torr公司、美国gatan公司、英国公司、美国利曼公司、美国pelco公司。

        国内：北京仪器厂、北京七星华创电子有限公司、中国电子科技集团第四十八所、戈德尔等离子科技香港控股有限公司、中国科学院微电子研究所、北方微电子、北京东方中科集成科技股份有限公司、北京创世威纳科技。

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