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        3、反应离子刻蚀系统

        设备功能：平板电极间施加高频电压，产生数百微米厚的离子层，放入式样，离子高速撞击式样，实现化学反应刻蚀和物理撞击，实现半导体的加工成型。

        主要企业品牌：

        国际：日本公司、美国公司、新加坡rec公司、韩国公司、韩国tes公司。

        国内：北京仪器厂、北京七星华创电子有限公司、成都南光实业股份有限公司、中国电子科技集团第四十八所。

        4、离子注入机

        设备功能：对半导体表面附近区域进行掺杂。

        主要企业品牌：

        国际：美国维利安半导体设备公司、美国cha公司、美国amat公司、半导体制造设备公司被amat收购。

        国内：北京仪器厂、中国电子科技集团第四十八所、成都南光实业股份有限公司、沈阳方基轻工机械有限公司、上海硅拓微电子有限公司。

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